由于老美切断了华为等中企的芯片代工渠道，这导致国内市场芯片供应问题变得更加紧迫。一方面为了缓解市场压力，另一方面为了打破垄断、实现自主、挽回尊严，国内迅速掀起了自主造芯的浪潮。
加上国产替代化潮流的推动，在被断供芯片的两三年内，我国半导体产业取得了巨大的进步。除了蚀刻机、离子注入机、光刻胶等半导体设备材料之外，就连难度系数最高的光刻设备也迎来了破冰。在芯片问题上，更是一度传出了中芯在四月份风险市场7nm先进工艺制程芯片的消息。
7nm芯片没了消息
然而，两个月过去了，我们没等来国产7nm芯片诞生的消息，等到的却是中芯方面的辟谣。
这是一个需要反思的问题，为什么国产芯片会高开低走？
会不会是期待之心过于迫切，加上舆论的烘托，让我们失去了客观对待国产半导体产业现状的冷静？
要知道，在外媒看来，目前中国半导体产业依然是中下游水平，芯片制程精度整体停留在28nm以上，甚至是55nm的程度。对于我们所希望的7nm芯片，这显然有着让人一时难以接受的差距。
或许这就是事实。中芯作为国内最先进的芯片代工企业，在第一季度投资了近千亿，先后两次扩产的均是28nm成熟产能，这足以说明问题，首先，国内市场需求的是中低端成熟工艺制程的芯片，其次，7nm等先进工艺芯片制造技术，我们还达不到。
院士呼吁放弃EUV
众所周知，EUV光刻机是先进工艺芯片制造的必须设备，是我国迈向高端芯片领域的最大拦路虎，为此，国内科研机构与科技企业早早的就确定了该领域的专项科研任务。
然而，荷兰巨头ASML在无法供货的情况下，竟然还对我们自研EUV一事进行冷嘲热讽，表示：即便给中国图纸，他们也造不出来。
对于这种充满“挑衅”意味的言论，很多人都认为这是ASML变相争夺国内光刻市场而抛出了的“烟雾弹”，毕竟如果我们实现了EUV国产化，那么ASML光刻“一哥”的地位就会变得岌岌可危。
谁曾想到，在清华大学突破EUV光源技术、上海微电子自研国产28nm光刻机即将落地之际，国内院士吴汉明教授发声了，他表示：EUV光刻机含有超过10万个精密的零配件，是全球智慧的结晶，仅靠一个国家是难以实现的，与其做这种“无用功”，我们更应该做的是“吃透”55nm这类低端芯片。
尽管这不符合国人的期待，而且听起来很“刺耳”，但结合中芯两次扩建28nm芯片产能，我们不能不承认一个事实，那就是国产芯片暂时或许真的很难达到我们的预期。
“中国芯”走错路了？
7nm芯片没了消息、院士呼吁放弃EUV，难道“中国芯”向高端挺进的路走错了？
答案很显然：并非如此。
华为海思的芯片设计实力、中微半导体的5nm刻蚀设备，都已达到国际一流水平，我们完全有畅想挺进高端领域的底气。只不过，长期依赖海外进口的国内市场，很难一口气完成所有设备技术的国产替代化，这需要时间。
就像小孩学走路一样，我们要先摆脱海外技术的“搀扶”，把最基础的“走路”技能给练扎实了，然后才能向海外学习“跑”。
对于国产芯片产业的现状，我们更需客观对待，不能“盲目吹嘘、夜郎自大”，科技发展的路上没有“侥幸”，更没有“弯道”，需要时间的积累和满负荷的研发，一点一滴的拼出来。
总结
不管是中芯，或者是吴汉明院士，他们所做的所说的，都是“中国芯”正在走的“康庄大道”，落后或许很丢人，但“好高骛远”只会事倍功半。
我们应该为国产半导体产业感到高兴，不该苛求它立刻达到海外的高度，因为它正脚踏实地弥补曾经落下的数十年“功课”，正如任正非所说：只有先“向下扎到根”，未来才能“向上捅破天”。
“中国芯”的崛起之路何尝不是如此？
