背景
最近一段时间，因为美国制裁华为的事件，许多牵扯其中的公司也逐渐被人们熟知，除了台积电、中芯国际、上海微电子装备以外，ASML（阿斯麦尔）——这家坐落在遥远西欧的公司，也成为了大众讨论的焦点，于是我做了一些了解，发现了一个特殊的时间点——2010年，因为从这年开始，ASML的利润率暴增，且在之后的十年里保持稳定，始终维持在20%左右，背后原因让人好奇。
2000年以前——低调的技术积累时期
ASML成立于1984年，彼时还只是飞利浦旗下的一家合资小公司，连个正经办公的地方都没有，只能在一间偶尔还会漏雨的小仓库开始自己的探索之路，同年发布第一个自研系统——PAS 2000步进式光刻机，此时的技术水平仍落后于日本制造商——佳能和尼康，市场比例也仅仅不到5%。
由于光刻机的重要零件之一就是镜片，而ASML显然没有这种技术积累，于是ASML在1986年选择与德国蔡司建立合作伙伴关系，这一合作就一直持续到了今日。毫不夸张的说，如果没有蔡司就不会有今日的ASML。
20世纪的最后十年，ASML积极拥抱资本市场，先后在纳斯达克以及阿姆斯特丹证券交易所上市，似乎在为新世纪的起飞做着准备。
2000-2010——孤注一掷，逆风翻盘
20世纪初，尼康在光刻机领域仍有一席之地，这源于尼康对零部件技术的绝对控制，这意味着零部件的质量都在尼康的掌控之中，但从另一个方面讲，尼康也失去了接受世界最先进技术的机会。这就好比当初拒绝安卓的诺基亚，固步自封直到被后来者赶上，渐渐失去市场。
光刻机技术的进步源于所用光源波长的不断减小，就像绘制极其精细的画作，所用笔触自然越细越好。尼康由于固执，错过了台积电天才工程师——林本坚的“光源湿刻法”技术，逐渐在之后的光刻机市场中败下阵来。而ASML紧紧的抓住了这个机会，与林本坚一拍即合开始生产新式光刻机。2006年，ASML推出第一台量产浸入式光刻机——TWINSCANXT 1700i，从此ASML开始从尼康手中逐步夺走大客户订单。
2010至今——紧抱美国大腿，一路顺风顺水
前面提到2010年对于ASML是一个特殊的年份，这是由于ASML推出了首台EUV光刻工具原型机——NXE:3000，EUV就是极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），是一种以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，是当今芯片制造领域的最高水平。
聊到这里，除了纳斯达克，似乎还没见到过美国的影子，那么对华为制裁中提到的不能使用的“美国技术”在哪里呢？这就不得不提EUV技术的发起者——EUV LLC联盟，该联盟极度看好极紫外光刻机技术，而该联盟成员更是个个鼎鼎大名：美国能源部、英特尔，摩托罗拉、AMD、IBM，以及美国能源部下属三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
起初ASML、尼康都是被排除在联盟之外的，但由于尼康是日本公司，美国对其仍有戒心，所以在种种权衡之下，最后ASML顺利加入EUV LLC联盟，而尼康被抛弃。ASML为了表达“忠心”，宣布将在美国建立研发中心及工厂且55%的零部件均从美国采购，同时愿意接受美国政府的定期审查。这就是为什么中芯国际时隔多年仍然买不到一台ASML光刻机，也是如今台积电无法给华为制造芯片的根本原因。
美国感受到了ASML的诚意，同意本国EUV大功率光源制造公司——Cymer成为ASML的供应商，随后ASML更是将Cymer收购，继续巩固自己的“王座”。
从2010年开始，ASML就已经成为了全世界光刻机领域的“王者”，最先进的制程让其拥有更高的话语权、定价权，这就是2010年以后，ASML利润率居高不下的原因。毫不夸张的说，ASML拥有掐住三星、台积电甚至苹果等高科技公司的强大实力。只不过他们如今同属一个阵营，美国不会让这种情况出现罢了。
眼看ASML在行业的地位逐渐稳固，众多客户也纷纷注资加强与ASML的联系，期望能够在未来第一时间享受最强技术带来的红利。2012年，英特尔连同三星和台积电共同投资52.29亿欧元入股ASML，以此获得优先供货权，结成坚固的利益共同体。如今ASML在超高端市场（10nm以下）已经是无人可挡的“王者”。
闲话一下
ASML的成功不只是一家公司的努力，可以说是整个西方科学界支撑起了如今的ASML。不得不说，短时间内，我们很难达到ASML的制造水平，因为这背后牵扯众多学科：光学、材料、化学、机械设计等等，我们还有很长的路要走。
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