近年来为何一再强调“中国芯”，并不仅仅是因为美国对华为在芯片上的“封锁”，而是基于中国制造正在由中低端向高端的升级。尤其5G甚至未来6G的研发、兴起以及大数据、人工智能、区块链等热门技术的现实应用，高端芯片将在其中占据越来越重的比例。一旦在高端芯片上受制于人，中国制造的全面升级战略将被卡住脖子，处于一个相当尴尬的境地。所以中国芯是中国制造突围的关键，也是国家战略性发展的重中之重，关系未来的布局。
只是亚洲在高端芯片领域与西方相比实在相差甚远，其核心技术也一直遭到西方的封锁。尤其有关高端芯片制造所需要的光刻机技术一直紧紧地握在少数几个西方公司手中。其中10nm以内的光刻机技术目前只有荷兰的ASML公司可以生产，可以说是完全垄断了这部分市场。
不过就在不久前，中科院再立新功，中国芯再次“突围”，打破欧美封锁，我国在5nm光刻机技术上取得重大进展，而且采用的是有别于荷兰ASML公司的新技术，目前还在试验当中。随着技术的完善，我国或将直接从28nm光刻机工艺一举跨过10nm和7nm工艺，直接生产处5nm最顶尖的光刻机工艺。不过目前该技术还并不完善，一切还处在研发中，不过这却让国人看到了希望，看到了一举打破欧美技术封锁，再创“中国制造神话”的希望。
目前中科院苏州所并没有就新发现藏着掖着，而是及时分享出来，希望给国内同行指明未来研发的新方向。无论最终是中科院率先研发出来，还是由其它光刻机研发企业先一步制造出成品，受益的只会是中国。若我国能顺利制造出5nm光刻机，将一举打破西方在光刻机领域的垄断地位，拿下这片蓝海市场。
要知道7nm的光刻机售价尚且高达1.2亿美元，而5nm光刻机售价起码不会低于1.8亿美元。一旦我国能自主生产5nm工艺的光刻机，这意味着我国离高端中国芯自主制造迈进关键的一大步。
不过也有专家表示，尽管中科院另开辟径，使中国的5nm光刻机不再是遥远的梦。但以目前的中国科技而言，想要短期内实现多个技术突破，真正将5nm光刻机制造出来还是有些过于理想化。一种新技术的探索，远远要比文字所看到的更困难，尤其光刻机这种最高端工艺技术的突破，其艰难程度以及前期和中期的投入就像是一个无底洞，砸下再多的钱不一定有结果，但又不能不持续去砸钱、去研究，去一点点将一个个技术难题啃掉。
所以鼓舞士气归鼓舞士气，但我们更要认清5nm光刻是很难在短时间内就能制造出来的。即便如今的技术已经有了很大的突破，也是我国早在几年甚至十几年前的努力下才取得的成就，只不过在不久前公布出来而已。你所知道的公布日期和真正投入研究的日期往往相差数年甚至十年以上之久，没有这些年的积累，技术哪有那么容易被突破。这并非是长他人志气、扫自家威风，而是希望提醒我们要脚踏实地的去发展，不要盲于自负、自满。
不过同样也不需要对中国芯太过悲观，因为欧美从来不是铁板一块，尤其在技术封锁上从来都是只要给足够大的利益，就一定会有国家将技术或成品送来。尤其疫情对全球经济的严重冲击下，未来我们需要的关键技术会有的，加上我国自身的研发能力逐渐提升，相信再给我国十年、二十年时间，一定会研发出与世界齐头并进的最先进、最高端的光刻机，实现无数国人期盼的“中国芯、中国梦”。
